UV/TiO2去除水中磺胺甲噁唑的動(dòng)力學(xué)及影響因素分析
| 論文類型 | 技術(shù)與工程... | 發(fā)表日期 | 2013-03-01 |
| 來(lái)源 | 中國(guó)環(huán)境科學(xué) | ||
| 作者 | 高乃文,張晏晏,馬艷 | ||
| 關(guān)鍵詞 | TiO2 光催化 磺胺甲噁唑 光降解速率常數(shù) 去除率 | ||
| 摘要 | 采用 UV/TiO2工藝去除磺胺甲唑(SMX),研究了 SMX 在納米 TiO2(Degussa P-25)懸漿體系中的光催化去除效果,考察了 TiO2投加量、SMX 初始質(zhì)量濃度、pH 值、CO32-和叔丁醇等因素對(duì) SMX 去除效果的影響.結(jié)果表明,UV/TiO2工藝可以有效地去除水中的 SMX,其反應(yīng)過(guò)程符合擬一級(jí)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)模型.當(dāng) TiO2投加量為 500mg/L,SMX 初始質(zhì)量濃度為 5mg/L,反應(yīng)液 pH 值為 7 時(shí),SMX 的去除率達(dá)到98.76%,反應(yīng)速率常數(shù)k為0.1438min- | ||
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