常規混凝沉淀工藝對陰離子表面活性劑的去除研究
| 論文類型 | 技術與工程 | 發表日期 | 2008-02-01 |
| 來源 | 《給水排水》2004年07期 | ||
| 作者 | 任剛,崔福義,林濤,安全 | ||
| 關鍵詞 | 陰離子表面活性劑(LAS) 去除 混凝沉淀 混凝劑 相關性 | ||
| 摘要 | 隨著陰離子表面活性劑(LAS)在民用和工業上的廣泛應用,由此帶來的水污染問題也日益加劇,對供水安全造成了很大威脅.針對目前大部分水廠仍采用混凝沉淀常規水處理工藝,考察了常規混凝沉淀工藝對LAS的去除效果.以Al2(SO4)3,PAC,FeCl3,PFS為混凝劑,非離子PAM為助凝劑進行了試驗,結果表明混凝沉淀對LAS有一定的去除效果,而且有機物和LAS的去除有一定相關關系.但濁度與LAS的去除相關性較差.試驗條件下對于LAS去除最佳混凝方案是投加量為40 mg/L的FeCl3.相同水質條件下鐵鹽混凝劑在除 | ||
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