UV、H2O2、O3及其聯用工藝對水中DMP的去除效果和降解機理分析
| 論文類型 | 技術與工程 | 發表日期 | 2008-02-01 |
| 來源 | 中國水網 | ||
| 作者 | 芮旻、高乃云、徐斌、趙建夫、樂林生、吳今明 | ||
| 關鍵詞 | 飲用水；鄰苯二甲酸二甲酯；高級氧化；降解機理；副產物 | ||
| 摘要 | 采用UV、H2O2、O3及其聯用工藝對自來水本底條件下鄰苯二甲酸二甲酯（DMP）的去除效果、特性及降解機理進行了對比和分析．采用單獨的UV光照射不能有效去除DMP；而UV-H2O2聯用工藝對DMP具有良好的去除效果．在DMP初始濃度約為1．0mg·L^-1，UV光強為133．9μW·cm^-2，H2O2投加量為20mg·L^-1的條件下，30min后DMP的去除效果可以達到73．08％，在降解過程中，監測到DMP氧化產物；當DMP初始濃度約為1．0mg·L^-1，O3投加量為3mg·L^-1時，單獨O3氧 | ||
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